日聯(lián)深圳單晶圓二流體清洗機(jī)RL-80
專用于清洗切割后的晶片（wafer）或玻璃片表面微塵。
設(shè)備特點(diǎn)：
1. 清洗流程:二流體清洗（可分段設(shè)置）一離心干燥。
2. 采用高速離心脫水原理,確保工件表面無水殘痕物。
3?配備除靜電離子風(fēng)系統(tǒng)，空氣過濾系統(tǒng)，使用壓縮空氣更潔凈。
4.整體不銹鋼鏡面機(jī)身美觀、堅(jiān)固耐用，耐酸性、堿性等清洗液。
技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | RL-80 | RL-80S |
外觀尺寸 | 420(L)x620(W)xl680(H)mm | 600(L)x680(W) x 1680(H)mm |
治具規(guī)格 | 8寸或以下（釆用標(biāo)準(zhǔn)或定制化陶瓷吸盤） | 12寸或以下（釆用標(biāo)準(zhǔn)或定制化陶瓷吸盤） |
機(jī)器凈重 | 約140KG | 約160KG |
清洗精度 | 清洗0.5nm及以上的Particle顆粒 | |
清洗方式 | 二流體清洗 | |
干燥方式 | 高速離心脫水 | |
標(biāo)準(zhǔn)固定方式 | 微孔陶瓷吸盤（可根據(jù)產(chǎn)品定制） | |
純水連接口徑 | ①12mm外徑軟管或PT1/2”內(nèi)螺紋 | |
純水供應(yīng) | 壓力 >0.3Mpa；流量 >10L/Min；電阻率 >17MQ | |
純水消耗量 | 0-8L/Min,正常工作耗水量<120L/h | |
排水出口徑 | PtT內(nèi)螺紋 | |
氣源入口徑 | （DIOmm外徑軟管或PT1/2”內(nèi)螺紋 | |
氣源供應(yīng) | 0.4-0.7Mpa；過濾精度:0.01pm；含油量:無油；含水量：壓力露點(diǎn)-40°C | |
氣體消耗量 | 10-40L/Min | |
排風(fēng)口口徑 | 4”（直徑115）x2 （抽風(fēng)風(fēng)速大于3M/Sec） | |
排風(fēng)量 | 400-700m7H | |
電源供應(yīng) | AC380V；50Hz | |
總功率 | 2.2Kw | |
耗電量 | 清洗時(shí)2.2w;待機(jī)時(shí)：lKw | |
傳動(dòng)馬力 | 3HP | |
離心轉(zhuǎn)速 | 可設(shè)80-1800R/Min | |
環(huán)境過濾方式 | 過濾精度0.5pm ;過濾效率99.99% | |
空氣過濾方式 | 0.01 卩mxl (精) | |
清洗壓力 | 5-10Kgf/cm2 | |
二流體霧徑 | 小于30nm | |
